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| 价格 | ¥ 90000 |
| 起订量 | ≥1台 |
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| 厂家 | 沈阳思联真空 | 型号 | SL270-2 |
| 用途 | 科研实验 |
PRODUCT DETAILS
SL270-2磁控溅射设备

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。
设备组成
系统主要由溅射真空室和传递室组成、永磁磁控溅射靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
采用单室立式上开盖结构,换样进样操作方便,不锈钢材料和真空材料。
技术指标:
1、温度(根据要求选配)
2、极限真空度:溅射室极限真空度≤5×10-5Pa;
3、抽速:40min工作真空度可达到:5×10-4Pa
4、压升率:停泵关机12小时后真空度≤10Pa;
5、系统漏率:5×10-10PaL/S;
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