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主营：真空设备及配件、电控装置、电源、密封件设计、制造、销售、维修；真空技术开发、咨询；仪表仪器、计算机销
咨询电话：
15140126694
| 价格 | ¥ 35000 |
| 起订量 | ≥1台 |
好货推荐
| 产地 | 辽宁 | 可售卖地 | 全国 |
| 适用范围 | 广泛应用于各种高校研究所、实验室、工厂、车间 | 加工定制 | 是 |
| 颜色 | 可定制 |
PRODUCT DETAILS
主要用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
系统组成:
主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10-6 Pa
恢复真空时间：从1×105 Pa抽至5×10-5 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-10Pa.L/S；
真空室：Ф300球型真空室 （定制），
基片尺寸：可放置4英寸 可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。
二维扫描机械平台，执行两自由度扫描,控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫,质量流量控制器1路
烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）
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