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主营：真空设备及配件、电控装置、电源、密封件设计、制造、销售、维修；真空技术开发、咨询；仪表仪器、计算机销
咨询电话：
15140126694
| 价格 | ¥ 35000 |
| 起订量 | ≥1台 |
好货推荐
| 产地 | 辽宁 | 可售卖地 | 全国 |
| 适用范围 | 广泛应用于各种高校研究所、实验室、工厂、车间 | 加工定制 | 是 |
| 颜色 | 可定制 |
PRODUCT DETAILS
主要用途：
用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。
系统组成:
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术指标：
1.极限真空度：≤6.7×10 Pa
2.恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
3.系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
4.e型电子枪：阳极电压：8kv(1套)
5.坩埚：水冷式坩埚，4穴设计，每个容量11ml
6.功率：0-8KW可调
7.电阻蒸发源(可选)电压：5V
8.功率：电流300A，最大输出功率2Kw1套，可切换水冷电
极3根，组成2个蒸发舟
9.基片尺寸：可放置4″基片
10.样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热最高温度 600°C±1°C，可调手动控制样品挡板组件1套
气路系统：质量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999Å
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