沈阳鹏程真空技术有限责任公司

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设备特点：

该设备为小型单靶(系统预留2套靶位)磁控溅射镀膜设备，通过模块式化设计后，系统安装方便灵活易于维护，适合科研与教学实验使用。

系统由溅射真空室与管路组成。配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好。用于镀制各种单层膜可实现单靶溅射模式(系统预留2套靶位)。同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。作为试验设备来说达到了最佳的性能价格比。

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价格	¥ 160000
起订量	≥1台

双靶磁控溅射镀膜仪