主营:真空技术开发;真空设备及配件、机械设备及配件、电子产品及配件技术开发、技术咨询服务、技术转让、生产、
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| 价格 | ¥ 260000 |
| 起订量 | ≥1台 |
好货推荐
| 产地 | 沈阳 | 型号 | PCCK450B |
| 应用技术 | 磁控溅射镀膜 | 膜层 | 光滑、致密、有光泽 |
| 膜厚 | 可控性和重复性好 | 供货总量 | 10000 |
PRODUCT DETAILS

该系统为高真空多功能三靶(永磁靶)磁控溅射镀膜系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜等。系统主要由溅射室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、直流电源、全自动匹配射频电源、样品台、样品加热炉、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统等组成。可实现自动镀膜控制。真空室采用卧式前开门结构,有利于靶材更换及装卸样品,内部装有便于更换的防污衬板,减少真空室污染,利于整体清洁。
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