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主营：真空技术开发；真空设备及配件、机械设备及配件、电子产品及配件技术开发、技术咨询服务、技术转让、生产、
咨询电话：
13898863716
| 价格 | ¥ 100000.00 |
| 起订量 | ≥1件 |
好货推荐
| 产地 | 沈阳 | 型号 | 非标定制 |
| 应用技术 | ZP+PMB+ARC+LZY（选配） | 膜层 | 光滑、致密、有光泽 |
| 膜厚 | 可控性和重复性好 | 供货总量 | 9999 |
PRODUCT DETAILS
该设备为小型四靶磁控溅射镀膜设备，通过模块式化设计后，系统安装方便灵活易于维护，适合科研与教学实验使用。
系统组成由溅射真空室与管路组成。配有旁抽系统，启动快不停机即可更换样品，重复性好。用于镀制各种单层膜、多层膜系，可实现单靶独立、四靶轮流、多靶共溅射等溅射模式。同时可以实现反应磁控溅射，制备氮化物，氧化物等，可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。
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